• 品牌:microlight3D
• 光源:385nm曝光/590nm对准
• 最小尺寸:1.5um
• 拼接精度:< 1um
• 光源:365nm UV
• 分辨率:1um
• 对准精度:±0.8um
• 曝光能量密度:>25mW/cm2
• 品牌:Leuven
• 衬底:硅、金属、化合物半导体等
• 片内刻蚀均匀性:< 5%
• 片间刻蚀均匀性:< 5%
• Bosch工艺,高深宽比
• 品牌:Oxford
• 温度:-150~400℃
• 离子密度:>1011cm3 • 出色的跨晶圆均匀性
• 出色的剖面控制
• 高刻蚀率、高选择性和低损伤加工
• 品牌:Picosun
• 衬底尺寸:50~200mm/单片
• 温度:50~500℃
• 电源功率:300W
• 前驱体:O2 Plasma、Hf等
• 品牌:Leuven
• 腔室极限真空:< 10mTorr
• 温度:200~400℃
• 激励电源频率:13.56MHz
• 激励电源功率:1KW
• 品牌:VPI
• 真空泵:旋转真空泵+涡轮分子泵
• 极限真空度:5×10-5Pa
• 腔体尺寸:Φ260*200mm
• 电源功率:< 3000W
• 品牌:SUSS
• 最高温度:550℃
• 最大压力:20kN
• 最大真空度:100mbar
品牌:szjiuju
• 品牌:memstools
品牌:Osiris
• 品牌:SAT
• 品牌:iontof
• 横向分辨率:< 50nm
• 质量分辨率:> 30000
• 广域动态范围与检测限
• 品牌:zeiss
• 二次电子图像分辨率:0.8nm
• ESB图像分辨率:1.2nm
• 加速电压:0.02~30kV
• 放大倍数:12~2000000x
• 品牌:KLA
• 垂直扫描分辨率:0.01nm
• 水平分辨率:<0.38um
• RMS重复精度:1nm
• 校正精度:< 0.1%
• 品牌:Bruker
• 垂直扫描范围:1mm
• 垂直扫描分辨率:1Å
• 单次扫描采集点:最大120000
• 台阶高度重复性:< 5Å
• 品牌:Olympus
• 最大扫描分辨率:4096*4096
• 光学变焦:1~50倍,增量0.01倍
• 扫描旋转:360度自由旋转,步进0.1度
• z轴精度:0.01um
• 品牌:Keyence
• 时效像素:1600*1200
• 最大扫描帧率:50F/s
• 高清晰动态范围:RGB 16bit
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